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我也不懂，说DUV多重曝光也能做到7nm，国内可以研发DUV
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台积电第一代7nm就是用duv做出来的，但是成本会高不少
离子束刻蚀还可以做得更小，问题是成本高，没有工业化的意义。多重曝光良率和工艺效率也是较低的，当然euv成本也不低，所以也是能做。但3nm就不行了。
我记得麒麟9904G好像就是duv的7nm
有业内人士说哈，是不是7nm后，意义都不大了。
90%以上的芯片都不需要7nm工艺
对国产芯片谈7nm说实话毫无意义
想办法把国产设备搞起来才行
应该组建国家半导体装备集团
所有供应商去长江存储
一起攻坚
DUV 多重曝光就可以支持7nm，但是成本太高，同时导致良率下降
7纳米不单单是光刻机决定的，还有很多设备卡着。
国产芯片最大的问题不是精度，是稳定性 
摩尔定律都失效了。1nm之后是什么？
另外，CPU最大问题是功耗，功耗上去了，就发热严重，并不是做不出，而是既要高精度纳米制程的，又要功耗低，但是这两个就是互斥的矛盾体，只能不断试错，找平衡点。
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