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听做芯片的朋友说我们芯片不需要EUV,DUV也能干到7nm

你问我答 • AlexVance60 • 发表于 2 年前 • 最后回复来自 bug404 • 2 年前

我也不懂,说DUV多重曝光也能做到7nm,国内可以研发DUV

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共收到9条回复
xiaohao750 2 年前 湖北省 #1 赞 0

台积电第一代7nm就是用duv做出来的,但是成本会高不少

Doubleview 2 年前 湖北省 #2 赞 0

离子束刻蚀还可以做得更小,问题是成本高,没有工业化的意义。多重曝光良率和工艺效率也是较低的,当然euv成本也不低,所以也是能做。但3nm就不行了。

Kelvin1990 2 年前 湖北省 #3 赞 0

我记得麒麟9904G好像就是duv的7nm

letiankaimen 2 年前 湖北省 #4 赞 0

有业内人士说哈,是不是7nm后,意义都不大了。

xxxtttt 2 年前 湖北省 #5 赞 8

90%以上的芯片都不需要7nm工艺
对国产芯片谈7nm说实话毫无意义
想办法把国产设备搞起来才行
应该组建国家半导体装备集团
所有供应商去长江存储
一起攻坚

Youngsh 2 年前 湖北省 #6 赞 1

DUV 多重曝光就可以支持7nm,但是成本太高,同时导致良率下降

burlpen113 2 年前 湖北省 #7 赞 0

7纳米不单单是光刻机决定的,还有很多设备卡着。

canrom7 2 年前 湖北省 #8 赞 0

国产芯片最大的问题不是精度,是稳定性

bug404 2 年前 湖北省 #9 赞 0

摩尔定律都失效了。1nm之后是什么?
另外,CPU最大问题是功耗,功耗上去了,就发热严重,并不是做不出,而是既要高精度纳米制程的,又要功耗低,但是这两个就是互斥的矛盾体,只能不断试错,找平衡点。

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